[实用新型]连续式真空镀膜设备输送装置有效

专利信息
申请号: 201120472491.1 申请日: 2011-11-24
公开(公告)号: CN202465857U 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 黄能杰 申请(专利权)人: 黄能杰
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 深圳冠华专利事务所(普通合伙) 44267 代理人: 诸兰芬
地址: 中国台湾台中市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种连续式真空镀膜设备输送装置,包含前端升降机构与后端升降机构,前端升降机构与后端升降机构分别设有一双向运转动力源,各个双向运转动力源分别驱动复数滚轴呈同向转动,位于连续式真空镀膜设备的下方设有一组回传机构;前端升降机构、后端升降机构、该进料基台、该镀膜基台与该出料基台分别增设一带体、一支撑件与一动力源,每一条带体分别环设于其中二个滚轴与其中支撑件,各个动力源分别驱动回传机构的数个滚轴呈同向转动,主要用来提升生产效率、输送稳定性与增加和产品良率。
搜索关键词: 连续 真空镀膜 设备 输送 装置
【主权项】:
一种连续式真空镀膜设备输送装置,可供配合连续式真空镀膜设备,系包含有:一前端升降机构与一后端升降机构分别连接于连续式真空镀膜设备的产品输入端与输出端,该前端升降机构与该后端升降机构分别设一双向运转动力源,各该双向运转动力源分别驱动复数滚轴呈同向转动,各该滚轴沿着连续式真空镀膜设备的输送方向排列设置,且各该轴心方向与输送方向互相垂直,另该前端升降机构与该后端升降机构分别设有一可侦测高点位置的上感测开关与一可侦测低点位置的下感测开关,各该升降机构邻近连续式真空镀膜设备的一端设有一感测开关,且远离连续式真空镀膜设备的一端设有一定位感测开关;位于连续式真空镀膜设备的下方设有一进料基台、一镀膜基台与一出料基台,连续式真空镀膜设备的下方设有一回传机构,并延伸于该前端升降机构与该后端升降机构,该回传机构具有一动力源驱动复数同向转动的滚轴; 其特征在于,该前端升降机构、该后端升降机构与该进料基台、该镀膜基台与该出料基台分别增设一带体与一支撑件与该动力源,各该带体分别环设于其中二该滚轴与其中该支撑件,各该动力源分别驱动该回传机构的复数滚轴呈同向转动。
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