[实用新型]一种晶体材料检查装置有效
| 申请号： | 201120475846.2 | 申请日： | 2011-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN202330305U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 陈先庆;邹宇琦;曹凤凯;刘献伟 | 申请（专利权）人： | 上海施科特光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/94 | 分类号： | G01N21/94;G01N15/02 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人： | 张坚 |
| 地址： | 201403 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种晶体材料检查装置，用于半导体技术领域，包括：光源模块，用来发射入射光并使用所述入射光对被测晶体材料进行照射；光电探测模块，与所述光源模块封装在一起，用来对被测晶体材料内杂质的后向散射光与入射光相干涉后得到的信号进行探测，并将所述信号转化为电信号；信号提取模块，用来对所述电信号进行提取并转化为数字信号；信号处理模块，用来对所述数字信号进行处理，得到所述被测晶体材料内杂质的微纳米颗粒粒径和/或其分布信息。因此，本实用新型具有结构简单、测量范围宽而准确度高等优点，且价格相对低廉，适合于工程实时监控等应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶体 材料 检查 装置 | ||
【主权项】：
晶体材料检查装置，其特征在于，所述装置包括：光源模块，用来发射入射光并使用所述入射光对被测晶体材料进行照射；光电探测模块，与所述光源模块封装在一起，用来对被测晶体材料内杂质的后向散射光与入射光相干涉后得到的信号进行探测，并将所述信号转化为电信号；信号提取模块，用来对所述电信号进行提取并转化为数字信号；信号处理模块，用来对所述数字信号进行处理，得到所述被测晶体材料内杂质的微纳米颗粒粒径和/或其分布信息。
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