[实用新型]一种用于化学机械抛光液的复合磨料有效
| 申请号： | 201120475848.1 | 申请日： | 2011-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN202322710U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 张磊;邹宇琦;曹凤凯;刘献伟 | 申请（专利权）人： | 上海施科特光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C08J5/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人： | 张坚 |
| 地址： | 201403 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于化学机械抛光液的复合磨料，该复合磨料包含聚苯乙烯内核以及包覆在所述聚苯乙烯内核外的无定型二氧化硅壳层，所述复合磨料的粒径为100-500nm。该复合磨料可以应用于化学机械抛光液，尤其是蓝宝石衬底材料的抛光液，有助于提高抛光速率以及减少抛光后的表面粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 复合 磨料 | ||
【主权项】：
用于化学机械抛光液的复合磨料，其特征在于：该复合磨料为聚苯乙烯/二氧化硅核壳型复合磨料，其包含聚苯乙烯内核以及包覆在所述聚苯乙烯内核外的无定型二氧化硅壳层，所述复合磨料的粒径为100‑500nm。
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