[实用新型]改善电流传输堵塞的LED芯片结构有效

专利信息
申请号: 201120479097.0 申请日: 2011-11-28
公开(公告)号: CN202405304U 公开(公告)日: 2012-08-29
发明(设计)人: 邓群雄;郭文平;柯志杰;黄慧诗 申请(专利权)人: 江苏新广联科技股份有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/36
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214111 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种改善电流传输堵塞的LED芯片结构,其包括衬底及位于衬底上方的P电极与N电极;N电极与衬底上方的N型氮化镓层电连接;所述N型氮化镓层内设有改善传输槽,所述改善传输槽在N型氮化镓层内从N型氮化镓层表面向衬底方向延伸,所述N电极填充于改善传输槽内,并覆盖于N型氮化镓层对应的表面。本实用新型通过位于改善传输槽内的N电极能分担相应的电势线,避免电势线聚集在N电极与N型氮化镓层的结合部,能扩大电势线的接触面积,避免电势线过渡聚集时产生电流堵塞,降低电流堵塞产生的发热现象,同时,能够提高LED芯片的出光效率;结构简单紧凑,与现有加工工艺相兼容,延长了LED芯片使用寿命,安全可靠。
搜索关键词: 改善 电流 传输 堵塞 led 芯片 结构
【主权项】:
一种改善电流传输堵塞的LED芯片结构,包括衬底(1)及位于所述衬底(1)上方的P电极(6)与N电极(9);所述N电极(9)与衬底(1)上方的N型氮化镓层(2)电连接;其特征是:所述N型氮化镓层(2)内设有改善传输槽(8),所述改善传输槽(8)在N型氮化镓层(2)内从N型氮化镓层(2)表面向衬底(1)方向延伸,所述N电极(9)填充于改善传输槽(8)内,并覆盖于N型氮化镓层(2)对应的表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏新广联科技股份有限公司,未经江苏新广联科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120479097.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top