[实用新型]碱金属和碱土金属的沉积系统有效
申请号: | 201120496500.0 | 申请日: | 2011-11-24 |
公开(公告)号: | CN202465855U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 秉圣·郭;斯蒂芬·班格;迈克尔·柯尼希;弗洛里安·里斯;拉尔夫·霍夫曼 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/14 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;钟强 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本实用新型公开了碱金属和碱土金属的沉积系统,包括金属溅射靶、基板固定器和多个功率源,金属溅射靶包括冷却通道,基板固定器配置成保持基板面对且平行于金属溅射靶,多个功率源配置成将能量施加至在基板和金属溅射靶之间点燃的等离子体。靶可具有盖,盖配置成安装在靶材料上方,盖可包括把手和阀,把手用于自动去除和替换沉积系统内的盖,阀用于提供至靶材料和盖之间的空间的通道,以便泵送、净化或者加压空间内的气体。多个功率源可包括DC源、脉冲DC源、RF源、双RF源、其他多频源等。双RF源可配置成用于反卷积控制等离子体特性,诸如自偏压、等离子体密度以及离子和电子能量。溅射气体可包括惰性气体,惰性气体的原子量小于金属靶的原子量。 | ||
搜索关键词: | 碱金属 碱土金属 沉积 系统 | ||
【主权项】:
用于碱金属和碱土金属的沉积系统,包括:真空室;在所述真空室内的金属溅射靶,所述靶包括贴附到背板的靶材料,所述背板包括冷却通道;在所述真空室内的基板固定器,所述固定器配置成保持基板,所述基板面对且平行于所述金属溅射靶;以及多个功率源,所述多个功率源配置向在所述基板和所述靶材料之间点燃的等离子体施加能量;其中所述靶材料是碱金属或碱土金属。
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