[实用新型]铜布司化学清洗装置有效

专利信息
申请号: 201120502239.0 申请日: 2011-12-06
公开(公告)号: CN202411036U 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 朱德平;吴剑雄 申请(专利权)人: 苏州工业园区艺达精密机械有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 陆明耀;陈忠辉
地址: 215122 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供了一种铜布司化学清洗装置,与数控机加工车床同步配套使用,包括清洗池和控制电机,所述清洗池进一步包括方形的不锈钢水箱,与控制电机连接的并由其驱动的旋转轴,装设在旋转轴上的若干个转动盘,每两个转动盘之间沿着圆周方向设置有若干个连接轴,并且在每个连接轴上装设有工件承载盒,在控制电机的驱动下,工件承载盒围绕旋转轴周而复始的旋转。由于采用循环使用的化学清洗装置,可以随着机加工的工况进程,保持工件铜布司的持续的化学清洗作业,有利于批量生产。
搜索关键词: 铜布司 化学 清洗 装置
【主权项】:
一种铜布司化学清洗装置,与数控机加工车床同步配套使用,包括清洗池(1)和控制电机(2),其特征在于:所述清洗池(1)进一步包括方形的不锈钢水箱(10),与控制电机(2)连接的并由其驱动的旋转轴(11),装设在旋转轴(11)上的若干个转动盘(12),每两个转动盘(12)之间沿着圆周方向设置有若干个连接轴(13),并且在每个连接轴(13)上装设有工件承载盒(14),在控制电机(2)的驱动下,工件承载盒(14)围绕旋转轴(11)周而复始的旋转。
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