[实用新型]用于半导体生产的供水系统有效
| 申请号： | 201120502251.1 | 申请日： | 2011-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN202370039U | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 陈鹏翔;崔泉 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | E03B7/07 | 分类号： | E03B7/07;E03B5/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 张骥 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于半导体生产的供水系统，包括水槽、使用端，水槽与使用端之间的主管线上设置有相互并联的至少两个水泵；水泵下游的主管线上设置有压力流量监测仪；每个水泵的出口分别设置有自动调节阀门；各自动调节阀门分别与所述压力流量监测仪电连接。本实用新型采用多台水泵同时运行，并增设自动调节阀门，通过压力流量监测仪来控制自动调节阀门的开度，使得供水系统的压力和流量稳定，能够有效避免运行故障时的压力和流量波动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 生产 供水系统 | ||
【主权项】：
一种用于半导体生产的供水系统，其特征在于：包括水槽、使用端，水槽与使用端之间的主管线上设置有相互并联的至少两个水泵；水泵下游的主管线上设置有压力流量监测仪；每个水泵的出口分别设置有自动调节阀门；各自动调节阀门分别与所述压力流量监测仪电连接。
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