[实用新型]一种气相沉积用多层制品支架有效
申请号: | 201120506237.9 | 申请日: | 2011-12-07 |
公开(公告)号: | CN202369641U | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 刘汝强 | 申请(专利权)人: | 刘汝强 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 吕利敏 |
地址: | 251200 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种气相沉积用多层制品支架。该多层制品支架包括由圆套筒、布气盘和支杆组成的单元层;所述单元层的结构是布气盘置于圆套筒上,支杆直立固定在布气盘上用于支撑待涂基板,在一个单元的布气盘上放置另一个单元层的圆套筒;圆套筒壁的上部对称设有两个凹口便于气体流通。利用本实用新型多层制品支架生产的涂层产品质量均匀一致,数量几倍增长,提高了生产的效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 多层 制品 支架 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积用多层制品支架,其特征在于包括由圆套筒、布气盘和支杆组成的单元层;所述单元层的结构是布气盘置于圆套筒上,支杆直立固定在布气盘上用于支撑待涂基板,在一个单元的布气盘上放置另一个单元层的圆套筒;其中,所述圆套筒壁的上部对称设有两个凹口便于气体流通;所述支杆有一尖端。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的