[实用新型]痕量气体吸收池有效
| 申请号： | 201120508241.9 | 申请日： | 2011-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN202433295U | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 孙岩;田耘 | 申请（专利权）人： | 宇星科技发展（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/03 | 分类号： | G01N21/03 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 李新林 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及气体检测仪器，公开了一种痕量气体吸收池，包括带有至少一透明视窗的池体，所述池体上设置有一气体入口和一气体出口，所述透明视窗设置有一入射光源，所述透明视窗设置有一光谱仪；所述的池体内长方向相对的一侧设置一主反射镜，另一侧设置有第一次反射镜和第二次反射镜；所述入射光源、主反射镜、第一次反射镜、第二次反射镜和光谱仪分别设置在：入射光源射出的光线射向第一次反射镜反射至主反射镜，再反射至第二次反射镜，而后反射至主反射镜再反射至第一次反射镜，最后反射至主反射镜再通过第二次反射镜射入光谱仪的位置。本实用新型具有增加了光程并增加气体在池体内的气体密度的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 痕量 气体 吸收 | ||
【主权项】：
一种痕量气体吸收池，其特征在于：包括带有至少一透明视窗的池体，所述池体上设置有一气体入口和一气体出口，所述透明视窗设置有一入射光源，所述透明视窗设置有一光谱仪；所述的池体内长方向相对的一侧设置一主反射镜，另一侧设置有第一次反射镜和第二次反射镜；所述入射光源、主反射镜、第一次反射镜、第二次反射镜和光谱仪分别设置在：入射光源射出的光线射向第一次反射镜反射至主反射镜，再反射至第二次反射镜，而后反射至主反射镜再反射至第一次反射镜，最后反射至主反射镜再通过第二次反射镜射入光谱仪的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宇星科技发展（深圳）有限公司，未经宇星科技发展（深圳）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201120508241.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于减小在罩壳内部空间中的气体的湿度的方法以及设备
- 下一篇：液晶混合物
