[实用新型]一种半导体晶圆片清洗液生成装置有效
| 申请号： | 201120550148.4 | 申请日： | 2011-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN202460570U | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 吴学成;徐雪舟;刘群 | 申请（专利权）人： | 无锡华润华晶微电子有限公司 |
| 主分类号： | B01F15/04 | 分类号： | B01F15/04;B01F3/08;B08B3/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 臧霁晨;卢江 |
| 地址： | 214028 江苏省无锡市国*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种半导体晶圆片清洗液生成装置，其特征在于，包括：多个试剂桶和混合桶，所述多个试剂桶和所述混合桶流体连通，其中，所述多个试剂桶的每一个配备有液位传感器，所述液位传感器用于检测试剂桶的液位以控制所述试剂桶中的试剂的体积，所述混合桶接收来自所述多个试剂桶的试剂的注入，所述被注入的试剂在所述混合桶中按照预定的体积比生成半导体晶圆片清洗液。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 晶圆片 清洗 生成 装置 | ||
【主权项】：
一种半导体晶圆片清洗液生成装置，其特征在于，包括：多个试剂桶和混合桶，所述多个试剂桶和所述混合桶流体连通，其中，所述多个试剂桶的每一个配备有液位传感器，所述液位传感器用于检测试剂桶的液位以控制所述试剂桶中的试剂的体积，所述混合桶接收来自所述多个试剂桶的试剂的注入，所述被注入的试剂在所述混合桶中按照预定的体积比生成半导体晶圆片清洗液，其中，所述多个试剂桶的每一个还配置有可视液位标识物，所述可视液位标识物用于从视觉上反映试剂桶的液位。
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