[实用新型]高电压瞬态电压抑制器芯片有效

专利信息
申请号: 201120551293.4 申请日: 2011-12-26
公开(公告)号: CN202423293U 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 薄勇;刘亚东;安毅力;张超;王睿;艾传令;郝会振;孔祥和 申请(专利权)人: 天津中环半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/861
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 莫琪
地址: 300385 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型涉及一种高电压瞬态电压抑制器芯片,芯片结构为P+NN+单向高电压瞬态电压抑制器或P+NP+双向高电压瞬态电压抑制器芯片,P+NN+单向高电压瞬态电压抑制器的芯片正面截层依次为:TVS芯片、台面沟槽、玻璃层和金属面;P+NP+双向高电压瞬态电压抑制器,芯片正面截层依次为:TVS芯片、台面沟槽、玻璃层和金属面;芯片主体结可使击穿电压达到250V-400V,而在芯片台面沟槽附近区域设计的辅助PN结,其击穿电压高于主体结击穿电压,使主体结区域先击穿,漏电流分布于主体结区域,而辅助结区域不发生击穿,从而解决了单扩散结结构在生产高电压芯片时的漏电大,击穿电压低,易损坏的问题,提高了高电压瞬态电压抑制器的耐压性能,提高瞬态电压抑制器的抗浪涌能力及可靠性。
搜索关键词: 电压 瞬态 抑制器 芯片
【主权项】:
一种高电压瞬态电压抑制器芯片,其特征在于:芯片结构为P+NN+ 单向高电压瞬态电压抑制器或P+NP+双向高电压瞬态电压抑制器芯片;P+NN+ 单向高电压瞬态电压抑制器的芯片正面截层依次为: TVS芯片(1)、台面沟槽(2)、玻璃层(3)和金属面(4);P+NP+双向高电压瞬态电压抑制器,芯片正面截层依次为:TVS芯片(1)、台面沟槽(2)、玻璃层(3)和金属面(4);高电压瞬态电压抑制器芯片剖面结构,依次为: 二次硼扩散结(5), 一次硼扩散结(6), 材料硅片(7), 磷扩散结(8)。
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