[实用新型]碳化铬复合材料金属掩模板有效
| 申请号： | 201120568707.4 | 申请日： | 2011-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN202404351U | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 潘宇强 | 申请（专利权）人： | 潘宇强 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518126 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种碳化铬复合材料金属掩模板结构，具体为碳化铬复合材料金属掩模板，包括不锈钢片和用于固定不锈钢片的框体，所述框体包括：网框和丝网，所述不锈钢片底部有层碳化铬膜。本实用新型的优点在于：1、使用寿命：硬度比普通不锈钢片提高20％-30％，同时强度、韧性的提高，让掩模板耐磨不易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩膜板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；2、生产效率的提高：通过纳米技术微离子溅射产生的膜，纳米碳化铬是一种稀有金属，其本身对锡膏中的助焊剂具有一定的排斥作用，所以大大减少锡膏在掩模板印刷孔内壁的残留从而大大减少掩模的清洗，提高了组装生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 碳化 复合材料 金属 模板 | ||
【主权项】：
碳化铬复合材料金属掩模板，其特征在于：包括不锈钢片和用于固定不锈钢片的框体，所述框体包括：网框和丝网，所述不锈钢片底部有层碳化铬膜。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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