[实用新型]一种高密度NH3+SiH4弧放电等离子体发生装置有效
申请号: | 201120573876.7 | 申请日: | 2011-12-31 |
公开(公告)号: | CN202473623U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 陈波 | 申请(专利权)人: | 成都科尚科技有限公司 |
主分类号: | H01H1/28 | 分类号: | H01H1/28;H01H1/34;C23C16/50 |
代理公司: | 成都科奥专利事务所(普通合伙) 51101 | 代理人: | 王蔚 |
地址: | 610000 四川省成都市高新区天府大*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种高密度NH3+SiH4弧放电等离子体发生装置,包括放电腔室、阳极、铈钨阴极、绝缘层、水冷铜板、拉瓦尔喷嘴、阴极本体和绝缘管,阴极本体通过绝缘管与放电腔室的顶部连接,铈钨阴极套装于阴极本体和绝缘管中,在阴极本体上设有氩气、氢气的导入口和冷却水的进口及出口,在放电腔室的底部设有绝缘层和水冷铜板,绝缘层-水冷铜板上下交错叠加3-7次,其中最下面一层为水冷铜板(12),该水冷铜板(12)与阳极(16)直接接触,其上设有氨气气源的导入口(14)和通道;在阳极上设有硅烷气源的导入口及通道,在拉瓦尔喷嘴上的出口附近设有导出硅烷气源的雾化喷嘴。本实用新型高密度等离子体,又能简化减反射薄膜的制备工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 高密度 nh sub sih 放电 等离子体 发生 装置 | ||
【主权项】:
一种高密度NH3+SiH4弧放电等离子体发生装置,包括放电腔室(7)、阳极(16)、铈钨阴极(2)、绝缘层(13)、水冷铜板(12)和拉瓦尔喷嘴(17),在放电腔室(7)的底部设有绝缘层(13),在绝缘层(13)下设有水冷铜板(12),绝缘层‑水冷铜板上下交错叠加3‑7次,每个水冷铜板(12)上设有冷却水的进口(8)、出口(15)及通道,阳极(16)位于绝缘层‑水冷铜板的叠加层下,其上设有拉瓦尔喷嘴(17),其特征在于:a.在放电腔室(7)的上方设有一阴极本体(3),阴极本体(3)通过耐高温的绝缘管(6)与放电腔室(7)的顶部连接,铈钨阴极(2)套装于阴极本体(3)和绝缘管(6)中,其上端穿出阴极本体(3)位于密封罩(1)内,其下端穿出绝缘管(6)位于放电腔室(7)内,在阴极本体(3)上设有逆变直流电源的接头(5)、氩气、氢气的导入口(10)和冷却水的进口(4)及出口(11);b.所述绝缘层‑水冷铜板叠加层的最下面一层为水冷铜板(12),该水冷铜板(12)与阳极(16)直接接触,其上设有氨气气源的导入口(14)和通道;c.在阳极(16)上设有硅烷气源的导入口(9)及通道,在拉瓦尔喷嘴(17)上的出口附近设有导出硅烷气源的雾化喷嘴(18)。
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