[实用新型]一种高密度NH3+SiH4弧放电等离子体发生装置有效

专利信息
申请号: 201120573876.7 申请日: 2011-12-31
公开(公告)号: CN202473623U 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 陈波 申请(专利权)人: 成都科尚科技有限公司
主分类号: H01H1/28 分类号: H01H1/28;H01H1/34;C23C16/50
代理公司: 成都科奥专利事务所(普通合伙) 51101 代理人: 王蔚
地址: 610000 四川省成都市高新区天府大*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种高密度NH3+SiH4弧放电等离子体发生装置,包括放电腔室、阳极、铈钨阴极、绝缘层、水冷铜板、拉瓦尔喷嘴、阴极本体和绝缘管,阴极本体通过绝缘管与放电腔室的顶部连接,铈钨阴极套装于阴极本体和绝缘管中,在阴极本体上设有氩气、氢气的导入口和冷却水的进口及出口,在放电腔室的底部设有绝缘层和水冷铜板,绝缘层-水冷铜板上下交错叠加3-7次,其中最下面一层为水冷铜板(12),该水冷铜板(12)与阳极(16)直接接触,其上设有氨气气源的导入口(14)和通道;在阳极上设有硅烷气源的导入口及通道,在拉瓦尔喷嘴上的出口附近设有导出硅烷气源的雾化喷嘴。本实用新型高密度等离子体,又能简化减反射薄膜的制备工艺。
搜索关键词: 一种 高密度 nh sub sih 放电 等离子体 发生 装置
【主权项】:
一种高密度NH3+SiH4弧放电等离子体发生装置,包括放电腔室(7)、阳极(16)、铈钨阴极(2)、绝缘层(13)、水冷铜板(12)和拉瓦尔喷嘴(17),在放电腔室(7)的底部设有绝缘层(13),在绝缘层(13)下设有水冷铜板(12),绝缘层‑水冷铜板上下交错叠加3‑7次,每个水冷铜板(12)上设有冷却水的进口(8)、出口(15)及通道,阳极(16)位于绝缘层‑水冷铜板的叠加层下,其上设有拉瓦尔喷嘴(17),其特征在于:a.在放电腔室(7)的上方设有一阴极本体(3),阴极本体(3)通过耐高温的绝缘管(6)与放电腔室(7)的顶部连接,铈钨阴极(2)套装于阴极本体(3)和绝缘管(6)中,其上端穿出阴极本体(3)位于密封罩(1)内,其下端穿出绝缘管(6)位于放电腔室(7)内,在阴极本体(3)上设有逆变直流电源的接头(5)、氩气、氢气的导入口(10)和冷却水的进口(4)及出口(11);b.所述绝缘层‑水冷铜板叠加层的最下面一层为水冷铜板(12),该水冷铜板(12)与阳极(16)直接接触,其上设有氨气气源的导入口(14)和通道;c.在阳极(16)上设有硅烷气源的导入口(9)及通道,在拉瓦尔喷嘴(17)上的出口附近设有导出硅烷气源的雾化喷嘴(18)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都科尚科技有限公司,未经成都科尚科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120573876.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top