[实用新型]真空磁控溅射式镀膜机有效
| 申请号： | 201120575107.0 | 申请日： | 2011-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN202450150U | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 唐翔;黄灏 | 申请（专利权）人： | 浙江华虹光电集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空磁控溅射式镀膜机，包括真空腔，所述真空腔中设有溅镀阳极和溅镀阴极，所述溅镀阳极、溅镀阴极和直流高压电源相连，其中，所述溅镀阴极外加装有电磁线圈，所述电磁线圈通过电磁驱动器和MCU模块的输出端相连，所述MCU模块的输入端通过A/D转换模块和光强检测模块相连。本实用新型提供的真空磁控溅射式镀膜机，通过加装电磁线圈，并在电磁线圈中通以受控的电流，采用可变的磁场进行溅镀厚度控制，提高光盘镀膜层的平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
一种真空磁控溅射式镀膜机，包括真空腔，所述真空腔中设有溅镀阳极和溅镀阴极，所述溅镀阳极、溅镀阴极和直流高压电源相连，其特征在于，所述溅镀阴极外加装有电磁线圈，所述电磁线圈通过电磁驱动器和MCU模块的输出端相连，所述MCU模块的输入端通过A/D转换模块和光强检测模块相连。
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