[发明专利]曝光装置用照光装置及其亮灯控制方法、以及曝光装置、曝光方法及基板有效
| 申请号： | 201180000051.9 | 申请日： | 2011-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN102369484A | 公开（公告）日： | 2012-03-07 |
| 发明（设计）人： | 川岛洋德;轻石修作;永井新一郎;原田智纪 | 申请（专利权）人： | 日本精工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;杨本良 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供可以缩短光源部的更换时间以及装置的停机时间的曝光装置用照光装置及其亮灯控制方法以及曝光装置、曝光方法及基板。照光装置(80)具有：多个光源部(73)，它们分别包括灯(71)和反射镜(72)，该反射镜(72)使从灯(71)产生的光具有指向性并且射出；可用于分别安装规定数量的光源部(73)的多个灯盒(81)；可用于安装所述多个灯盒(81)的支撑体(82)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 用照光 及其 控制 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种曝光装置用照光装置，其特征在于，其具有：多个光源部，它们分别包括发光部和反射光学系统，该反射光学系统使从该发光部产生的光具有指向性并且射出；可用于分别安装规定数量的所述光源部的多个灯盒；可用于安装所述多个灯盒的支撑体。
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