[发明专利]污染防止剂组合物有效
| 申请号： | 201180003570.0 | 申请日： | 2011-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN103003490A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 关谷宏;泽田拓;小林大介 | 申请（专利权）人： | 曼泰克株式会社 |
| 主分类号： | D21F5/00 | 分类号： | D21F5/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供一种能够充分防止树脂粘附于干燥部部分的污染防止剂组合物。一种污染防止剂组合物，其包含下式(1)所示的低分子聚硅氧烷化合物和下式(2)所示的高分子聚硅氧烷化合物，每1分子的低分子聚硅氧烷化合物中改性基的个数为0.1～3.0个，每1分子的高分子聚硅氧烷化合物中改性基的个数为1.0～10个，低分子聚硅氧烷化合物中聚硅氧烷单元的重复单元数m和高分子聚硅氧烷化合物中聚硅氧烷单元的重复单元数n满足2m≤n的关系。[式(1)中，取代基R1表示甲基或改性基，重复单元数m表示20～200的整数]。[式(2)中，取代基R2表示甲基或改性基，重复单元数n表示整数]。 |
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| 搜索关键词： | 污染 防止 组合 | ||
【主权项】：
1.一种污染防止剂组合物，其包含：下式(1)所示的低分子聚硅氧烷化合物，和下式(2)所示的高分子聚硅氧烷化合物；每1分子的所述低分子聚硅氧烷化合物中改性基的个数为0.1～3.0个，每1分子的所述高分子聚硅氧烷化合物中改性基的个数为1.0～10个，所述低分子聚硅氧烷化合物中聚硅氧烷单元的重复单元数m和所述高分子聚硅氧烷化合物中聚硅氧烷单元的重复单元数n满足2m≤n的关系。【化1】![]()
[式(1)中，取代基R1表示甲基或改性基，重复单元数m表示20～200的整数。]【化2】![]()
[式(2)中，取代基R2表示甲基或改性基，重复单元数n表示整数。]
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