[发明专利]用于气相沉积的含钛前体

摘要

公开了含钛前体及其合成方法。该化合物可用于使用气相沉积方法如化学气相沉积或原子层沉积来沉积含钛、氧化钛、氧化锶钛和钛酸锶钡的层。

主权项

具有下式的分子：Ti(R1‑N‑C(R3)‑N‑R2)u(OR4)x(NR5R6)y(O2CR7)z    式I或Ti(R1‑N‑(C(R3)2)m‑N‑R2)v(OR4)x(NR5R6)y(O2CR7)z    式II其中：R1、R2、R5、R6和R7独立地选自H和C1‑C6烷基；R3＝H、C1‑C6烷基或NMe2；R4为C1‑C6烷基；m＝2‑4；u＝0‑2；v＝0‑1；x＝1‑3；y＝0‑2；z＝0‑1；在式I中，u+x+y+z＝4；在式II中，2v+x+y+z＝4；且u、v或z≥1。