[发明专利]光半导体及其制造方法、以及光半导体设备、光触媒、氢生成设备和能量系统有效

专利信息
申请号: 201180004738.X 申请日: 2011-11-28
公开(公告)号: CN102686314A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 铃木孝浩;野村幸生;田村聪;羽藤一仁;谷口升;德弘宪一;宫田伸弘 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J23/20;B01J23/648;B01J35/02;C01B3/04;C01G33/00;H01M8/00;H01M8/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光半导体及其制造方法、以及光半导体设备、光触媒、氢生成设备和能量系统。本发明的光半导体的制造方法包括:混合工序,制作包含铌化合物和还原防止剂的混合物,该铌化合物至少在组成中含有氧;氮化工序,使所述混合物与氮化合物气体进行反应,从而使所述混合物氮化;和洗净工序,从通过所述氮化工序得到的试样中,利用洗净液溶解铌氮氧化物以外的化学种,分离出铌氮氧化物。本发明的光半导体实质上由铌氮氧化物构成,该铌氮氧化物具有斜锆石型结晶构造、且具有由组成式NbON表示的组成。
搜索关键词: 半导体 及其 制造 方法 以及 半导体设备 触媒 生成 设备 能量 系统
【主权项】:
一种光半导体,其实质上由铌氮氧化物构成,该铌氮氧化物具有斜锆石型结晶构造、且具有由组成式NbON表示的组成。
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