[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法有效
| 申请号： | 201180005050.3 | 申请日： | 2011-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN102666014B | 公开（公告）日： | 2017-10-31 |
| 发明（设计）人： | 岩野友洋;秋元启孝;成田武宪;木村忠广;龙崎大介 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;C09K3/14;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 日本国东京都千*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及的悬浮液，含有磨粒和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。本发明涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。 | ||
| 搜索关键词： | 悬浮液 研磨 液套剂 以及 使用 它们 方法 | ||
【主权项】：
一种研磨液套剂，其特征在于，该研磨液的构成成分被分为第1液体和第2液体分别保存，将所述第1液体和所述第2液体混合即成为研磨液，所述第1液体为含有磨粒和水的悬浮液，所述磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，对于波长500nm的光有50％/cm以上的透光率，所述第2液体含有添加剂和水。
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