[发明专利]立方氮化硼烧结体和立方氮化硼烧结体工具有效
| 申请号： | 201180005244.3 | 申请日： | 2011-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN102712047A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 松田裕介;冈村克己;久木野晓 | 申请（专利权）人： | 住友电工硬质合金株式会社 |
| 主分类号： | B23B27/14 | 分类号： | B23B27/14;B23B27/20;B23C5/16;C04B35/583 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁业平;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是获得一种立方氮化硼的含量高的立方氮化硼烧结体，其中，获得了优异的耐崩裂性和耐磨性。本发明的立方氮化硼烧结体是包含立方氮化硼和粘结相的立方氮化硼烧结体，其中，所述立方氮化硼的含量为大于或等于82体积%且小于或等于98体积%，并且在所述立方氮化硼烧结体的截面中，面积为大于或等于0.05μm2且小于或等于0.5μm2的孤立粘结相相对于所述立方氮化硼具有两段或更多段的凸起，并且假设在从所述凸起的顶端起的第一段凸起中，A1表示与顶端方向垂直的边长，B1表示与所述顶端方向平行的边长；并且在从所述顶端起的第二段凸起中，A2表示与所述顶端方向垂直的边长，B2表示与所述顶端方向平行的边长，则具有其中A1/B1是A2/B2的1倍以上且10倍以下这样的凸起的孤立粘结相占面积为大于或等于0.05μm2且小于或等于0.5μm2的所述孤立粘结相全体的面积比为大于或等于25%。 | ||
| 搜索关键词： | 立方 氮化 烧结 工具 | ||
【主权项】：
一种立方氮化硼烧结体，其包含立方氮化硼和粘结相，其中所述立方氮化硼的含量为大于或等于82体积%且小于或等于98体积%，在所述立方氮化硼烧结体的截面中，面积为大于或等于0.05μm2且小于或等于0.5μm2的孤立粘结相相对于所述立方氮化硼具有两段或更多段的凸起，并且假设在从所述凸起的顶端起的第一段凸起中，A1表示与顶端方向垂直的边长，B1表示与所述顶端方向平行的边长；并且在从所述顶端起的第二段凸起中，A2表示与所述顶端方向垂直的边长，B2表示与所述顶端方向平行的边长，则具有其中A1/B1是A2/B2的1倍以上且10倍以下这样的凸起的孤立粘结相占面积为大于或等于0.05μm2且小于或等于0.5μm2的所述孤立粘结相全体的面积比为大于或等于25%。
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