[发明专利]紫外光处理方法和系统有效
| 申请号： | 201180005499.X | 申请日： | 2011-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN102741171A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | J·A·哈格斯特拉姆;J·D·韦弗 | 申请（专利权）人： | 哈利伯顿能源服务公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民;张全信 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在本发明提供的众多方法中，提供的一种是这样的方法，其包括：提供处理液，该处理液由于在处理液中存在至少多个微生物而具有第一微生物数；将衰减剂加入处理液；将处理液放置在包含UV光源的UV光处理系统中以便衰减剂产生多个自由基；允许自由基与处理液中的微生物相互作用以便将处理液的微生物数减少到第二微生物数；以及将具有第二微生物数的处理液放入地层中。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外光 处理 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：提供处理液，所述处理液由于在所述处理液中存在至少多个微生物而具有第一微生物数；将衰减剂加入所述处理液；将所述处理液放置在包含UV光源的UV光处理系统中，以便所述衰减剂产生多个自由基；以及允许所述自由基与所述处理液中的微生物相互作用，以便将所述处理液的微生物数减少到第二微生物数。
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