[发明专利]计算断层摄影成像方法及系统有效
| 申请号： | 201180005845.4 | 申请日： | 2011-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN102711613A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 安德鲁·莫里斯·金斯顿;亚德里恩·保罗·谢泼德;特龙·卡尔斯坚·瓦尔斯洛特;沙恩·杰米·莱瑟姆;亚瑟·萨克拉里乌 | 申请（专利权）人： | 澳大利亚国立大学 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G01K9/00;G06T9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王萍;陈炜 |
| 地址： | 澳大利亚*** | 国省代码： | 澳大利亚;AU |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种计算断层摄影成像方法，包括：获取表示使用未对准的断层摄影成像装置所获得的对象的二维投影图像的投影数据；并且，对投影数据进行处理以生成未对准数据，未对准数据表示量化所述断层摄影成像装置的各个未对准的一个或多个值。 | ||
| 搜索关键词： | 计算 断层 摄影 成像 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种计算断层摄影成像方法，包括：获取表示使用未对准的断层摄影成像装置所获得的对象的二维投影图像的投影数据；以及对所述投影数据进行处理，以生成未对准数据，所述未对准数据表示量化所述断层摄影成像装置的各个未对准的一个或多个值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于澳大利亚国立大学，未经澳大利亚国立大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180005845.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：防电磁泄漏一体机外壳
- 下一篇：附聚物及其制备
