[发明专利]具有局部区域透明部的化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 201180005898.6 | 申请日： | 2011-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN102770239A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | W·阿利森;黄平;D·斯科特;R·弗伦泽尔;R·科普里希 | 申请（专利权）人： | 内克斯普拉纳公司 |
| 主分类号： | B24B37/14 | 分类号： | B24B37/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 吴鹏;马江立 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种CMP抛光垫，该抛光垫包括：（a）具有抛光面和与所述抛光面相对的底面的抛光层；所述抛光层具有至少一个固化的不透明热固性聚氨酯区域和至少一个孔径区域；所述至少一个固化的不透明热固性区域具有从约10%至约55%体积百分比的孔隙率；所述至少一个孔径区域具有（1）定位在抛光面之下的顶部开口，（2）与所述底面共平面的底部开口，和（3）从孔径的顶部开口延伸到孔径的底部开口的直线竖直侧壁；所述至少一个孔径区域充填有对于700-710纳米的波长具有小于80%的透光率并与热固性聚氨酯不透明区域直接化学地接合的热固性聚氨酯局部区域透明部材料的固化插塞；（b）覆盖抛光层的所述底面的至少一部分的无孔径的可移除的释放片材；以及（c）介于所述抛光层与所述释放片材之间的粘合剂层；所述粘合剂层能够使抛光层的底面在所述释放片材已被移除后粘附至CMP设备的压板。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 局部 区域 透明 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光（CMP）垫，包括：具有抛光面和与所述抛光面相对的底面的抛光层；所述抛光层具有至少一个包括固化的封闭孔格的热固性聚氨酯或聚脲不透明区域以及至少一个孔径区域；所述至少一个包括固化的封闭孔格的热固性聚氨酯或聚脲不透明区域具有从约10%至约55%体积百分比的孔隙率；所述至少一个孔径区域具有（1）定位在所述抛光面之下的顶部开口，（2）与所述底面共平面的底部开口，和（3）从孔径的顶部开口延伸到孔径的底部开口的直线竖直侧壁；所述至少一个孔径区域充填有热固性聚氨酯或聚脲局部区域透明部（LAT）材料的固化插塞，该局部区域透明部材料对于700至710纳米的波长具有小于80%的透光率并且与热固性聚氨酯不透明区域直接化学地接合。
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