[发明专利]托架盖有效

专利信息
申请号: 201180006929.X 申请日: 2011-05-02
公开(公告)号: CN102893386A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 艾维利恩·安格洛夫;布赖恩·西弗森;纳坦·所罗门 申请(专利权)人: 诺发系统有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 沈锦华
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明描述新颖的半导体处理托架及包含此类托架的设备的实例。这些托架经特定配置以向半导体衬底提供均匀的热传递且减少维修复杂性及/或频率。具体来说,托架可包含可移除盖,所述可移除盖定位于所述托架的金属载盘上方。所述可移除盖经配置以维持其面向衬底的表面的一致且均匀的温度分布,尽管所述载盘的上表面(其支撑所述盖且与所述盖热连通)可具有更不均匀的温度分布。所述盖可由某些陶瓷材料制成且定形为薄板。这些材料可耐得住处理环境且在许多次处理循环之后保持其热特性。所述盖可轻易从所述载盘移除且用一个新盖替换,而无需对整个设备进行大规模拆卸。
搜索关键词: 托架
【主权项】:
一种托架,其用于将半导体衬底支撑于用于处理所述半导体衬底的设备中,所述托架包括:金属载盘,其包括上表面,所述上表面用于向所述半导体衬底提供热;及可移除陶瓷盖,其用于在所述设备中处理所述半导体衬底期间向定位于所述可移除陶瓷盖的面向衬底的表面上方的所述半导体衬底提供实质上均匀的热传递,所述可移除陶瓷盖被定位在所述金属载盘的所述上表面上方。
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