[发明专利]抛光垫有效
| 申请号： | 201180006998.0 | 申请日： | 2011-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN102712074A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 木村毅 | 申请（专利权）人： | 东洋橡胶工业株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20;B24B37/22 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 苏萌;钟守期 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种抛光垫（1），其可在抛光状态下高精度地进行光学终点检测，即使在长时间使用的情况下也能防止浆料从抛光层（10）一侧泄漏至缓冲层（12）一侧。此外，本发明的目的还在于提供使用该抛光垫的半导体器件的制备方法。本发明抛光垫的特征为，在使具有抛光区（8）和透光区（9）的抛光层与具有通孔（11）的缓冲层以所述透光区和所述通孔重合的方式通过双面胶带（15）而层叠的抛光垫中，透光构件（16）粘贴于所述通孔内的双面胶带的粘合剂层（14）上。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 | ||
【主权项】：
一种抛光垫，其特征为在使具有抛光区和透光区的抛光层与具有通孔的缓冲层以所述透光区和所述通孔重合的方式通过双面胶带而层叠的抛光垫中，透光构件粘贴于所述通孔内的双面胶带的粘合剂层上。
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