[发明专利]背面接触太阳能电池的制造方法无效
申请号: | 201180007151.4 | 申请日: | 2011-01-18 |
公开(公告)号: | CN102725867A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 全珉星;李元载;赵银喆;李浚诚 | 申请(专利权)人: | 现代重工业株式会社 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 韩国蔚*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种背面接触太阳能电池的制造方法,其中结合离子注入工艺和热扩散工艺以在衬底背表面形成p+区域和n+区域,从而最小化工艺数量。根据本发明的背面接触太阳能电池的制造方法包括下面的步骤:制备n型晶体硅衬底;在衬底的前表面、背表面和侧表面上形成热扩散控制膜;将p型杂质离子注入到衬底背表面以形成p型杂质区域;图案化热扩散控制膜从而选择性地暴露衬底背表面;以及执行热扩散工艺从而在暴露的衬底背表面区域形成高浓度背场层(n+)和在衬底的前表面区域形成低浓度前场层(n-),并且激活p型杂质区域来形成p+发射区。 | ||
搜索关键词: | 背面 接触 太阳能电池 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种背面电极型太阳能电池的制造方法,包括:制备n型晶体硅衬底;在所述衬底的前表面、背表面和侧表面上形成热扩散控制膜;将p型杂质离子注入所述衬底的背表面,形成p型杂质区域;图案化所述热扩散控制膜以选择性地暴露所述衬底的背表面;以及通过执行热扩散工艺,在所述衬底的背表面的暴露区域形成高浓度背场层(n+),而在所述衬底的前表面形成低浓度前场层(n‑),并通过激活所述p型杂质区域来形成p+发射区。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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