[发明专利]移除材料及转印图案的方法及系统有效
| 申请号： | 201180007625.5 | 申请日： | 2011-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN102859436A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | G·M·施米德;M·N·米勒;B-J·乔伊;D·J·雷斯尼克;S·V·斯里尼瓦桑;F·Y·徐;D·D·唐纳德森 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 江磊 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了可通过在受控组合物的气体气氛中暴露于来自能量源的真空紫外(VUV)辐射移除基板上的聚合材料。本发明还描述了在进行所述移除后，用另外的蚀刻技术进行纳米压印。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 图案 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于移除基板上的固化的可聚合材料的系统，所述系统包括:(a)真空紫外(VUV)辐射源;(b)基板处置器，所述基板处置器构型设计用来保持基板，所述处置器定位在与所述真空紫外(VUV)辐射源相对的位置，且可以相对于该真空紫外(VUV)辐射源移动;(c)两个或更多个贮器，所述贮器各自构型设计用来保留气体，并在所述真空紫外(VUV)辐射源与所述基板之间局部性地提供所述气体;及(d)控制单元，所述控制单元与所述两个或更多个贮器相连，所述控制单元通过编程控制从各个贮器输送的气体的量，从而在所述真空紫外(VUV)辐射源与所述基板之间提供特定的气体混合物。
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