[发明专利]具有共享资源的工艺腔室及其使用方法

摘要

本发明提供了具有共享资源的工艺腔室及其使用方法。在一些实施例中，基板处理系统包括第一工艺腔室，该第一工艺腔室具有布置在第一工艺腔室中的第一基板支撑件，其中第一基板支撑件具有第一加热器和第一冷却板，以控制第一基板支撑件的温度；第二工艺腔室，该第二工艺腔室具有布置在第二工艺腔室内的第二基板支撑件，其中第二基板支撑件具有第二加热器和第二冷却板，以控制第二基板支撑件的温度；以及共同传热流体源，该传热流体源具有出口以将传热流体提供至第一冷却板和第二冷却板，并且该传热流体源具有入口，以接收来自第一冷却板和第二冷却板的传热流体。

主权项

一种基板处理系统，所述基板处理系统包括：第一工艺腔室，所述第一工艺腔室具有第一基板支撑件，所述第一基板支撑件布置在所述第一工艺腔室内，其中所述第一基板支撑件具有一个或多个通道供传热流体循环，以控制所述第一基板支撑件的温度；第二工艺腔室，所述第二工艺腔室具有第二基板支撑件，所述第二基板支撑件布置在所述第二工艺腔室内，其中所述第二基板支撑件具有一个或多个通道供所述传热流体循环，以控制所述第二基板支撑件的温度；以及共享传热流体源，所述共享传热流体源具有出口，以将所述传热流体提供至所述第一基板支撑件和所述第二基板支撑件各自的所述一个或多个通道，并且所述共享传热流体源具有入口，以接收来自所述第一基板支撑件和所述第二基板支撑件的所述传热流体。