[发明专利]浸渍型膜组件单元和膜分离活性污泥处理设备无效
| 申请号： | 201180007895.6 | 申请日： | 2011-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102740955A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 森田彻;渡边义公 | 申请（专利权）人： | 住友电工超效能高分子股份有限公司;国立大学法人北海道大学 |
| 主分类号： | B01D65/02 | 分类号： | B01D65/02;B01D63/02;B01D63/08;B01D71/36;C02F3/12;C02F3/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 顾红霞;王慧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种浸渍型膜组件单元，包括：浸渍型的膜组件（2），其用于膜分离活性污泥过滤；延长壁（27），其从膜组件（2）的下端延伸并且包围膜组件（2）下方的空间；以及膜曝气散气装置（8），其布置在所述空间中的下部或所述空间下方的周围位置处，并具有在平面内布置的多个散气孔，膜组件（2）具有分离膜，所述分离膜之间存在间隙，并且延长壁（27）接收经散气孔输出的气泡，并且将气泡引导到间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 浸渍 组件 单元 分离 活性污泥 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种浸渍型膜组件单元，包括：浸渍型的膜组件，其用于膜分离活性污泥过滤；延长壁，其从所述膜组件的下端延伸并包围所述膜组件下方的空间；以及膜曝气散气装置，其布置在所述空间中的下部或所述空间的下方周围位置，并具有以矩阵布置的多个散气孔，所述膜组件具有分离膜，所述分离膜之间存在间隙，所述延长壁将气泡从所述散气孔引导到所述间隙。
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