[发明专利]放射成像系统无效
申请号: | 201180008286.2 | 申请日: | 2011-02-02 |
公开(公告)号: | CN102740775A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 村越大;多田拓司;阿贺野俊孝;高桥健治 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;A61B6/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 杨静 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | X射线成像系统具有X射线源(11)、第一和第二吸收光栅(31、32)、以及平板检测器(FPD)(30),并通过在x方向上相对于第一吸收光栅(31)移动第二吸收光栅(32)时执行成像,来获得对象H的相位对比图像。满足以下数学表达式DX≠n×(p1′×p2′)/|p1′-p2′|,其中,p1′代表在第二吸收光栅(32)的位置处的第一图案图像的周期,且p2′代表第二吸收光栅(32)的实质光栅间距,且DX代表FPD(30)的每个像素的X射线成像区域在x方向上的尺寸。此处,“n”代表正整数。 | ||
搜索关键词: | 放射 成像 系统 | ||
【主权项】:
一种放射成像系统,包括:第一光栅,具有在第一方向上延伸并以第一间距布置在第二方向上的两个或更多个放射屏蔽元件,所述第二方向与所述第一方向正交,从放射源发射的放射线穿过所述第一光栅,以产生第一周期图案图像;第二光栅,具有在第一方向上延伸并以第二间距布置在第二方向上的两个或更多个放射屏蔽元件,所述第二光栅的放射屏蔽元件部分屏蔽所述第一周期图案图像,以产生第二周期图案图像;扫描部,用于在所述第二方向上以预定间距将所述第一光栅和所述第二光栅中的至少一个相对于另一个加以移动;放射图像检测器,用于将所述第二周期图案图像检测为图像信号;处理部,用于基于由所述放射图像检测器获得的图像信号,对相位信息进行成像;其中,满足数学表达式DX≠n×(p1′×p2′)/|p1′‑p2′|,其中,p1′代表在所述第二光栅的位置处的所述第一周期图案图像关于所述第二方向的周期,且p2′代表所述第二光栅关于所述第二方向的实质光栅间距,且DX代表所述放射图像检测器中每个像素的放射成像区域关于所述第二方向的尺寸,以及n代表正整数。
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