[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201180010632.0 | 申请日： | 2011-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN102770811A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 约翰内斯·昂伍李;彼得·德亚格尔;埃尔温·范茨韦特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻设备，包括：光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置以及配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，所述致动器用于相对于所述衬底移动光学装置列或其一部分。设置光学传感器装置，所述光学传感器装置相对于光学装置列是可移动的且具有能够使得所述光学传感器装置(936)移动通过光学装置列中的每个光学装置列的投影区域(940)的移动范围以测量光学装置列中的每个光学装置列的束。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种设备，包括：至少两个光学装置列，每个光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案，每个光学装置列具有配置成发射束的自发射式对比度装置以及配置成将束投影到目标部分上的投影系统；用于每个光学装置列的致动器，所述致动器用于相对于所述衬底移动光学装置列的至少一部分；和光学传感器装置，所述光学传感器装置是能够相对于光学装置列移动的且具有移动范围，所述移动范围能够使得所述光学传感器装置移动通过光学装置列中的每个光学装置列的投影区域以测量光学装置列中的每个光学装置列的束。
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