[发明专利]射线治疗设备以及用于在入射的辐射场中产生分辨率提高的方法无效

专利信息
申请号: 201180011201.6 申请日: 2011-02-02
公开(公告)号: CN102762257A 公开(公告)日: 2012-10-31
发明(设计)人: O.海德 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 杜荔南;卢江
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种射线治疗设备,具有:-射线源,从该射线源出发用于辐射的射线能从至少两个彼此相反的方向定向到目标体积上,-准直器,具有多个用于限制产生辐射场的治疗射线的准直器元件,其中通过这些准直器元件的扩展预先给定辐射场的分辨率,以及-偏移设备,其引起相反的辐射场的入射在偏移下这样进行,即两个相反地入射的辐射场相互之间偏移分辨率的一部分。此外本发明涉及一种在射线治疗设备中用于在入射的辐射场中产生分辨率提高的方法,-借助准直器产生第一辐射场,该准直器限制从第一空间方向发射的射线并且包括多个预先给定该辐射场的分辨率的准直器元件,-借助准直器产生第二辐射场,该准直器限制从第二空间方向发射的其它射线,其中第二辐射场与第一辐射场彼此偏移分辨率的一部分。
搜索关键词: 射线 治疗 设备 以及 用于 入射 辐射 产生 分辨率 提高 方法
【主权项】:
射线治疗设备(21),具有:‑射线源(23),从该射线源出发用于辐射的射线能从至少两个彼此相反的方向定向到目标体积上,‑准直器(25),具有多个用于限制产生辐射场(11,13)的治疗射线的准直器元件,其中通过这些准直器元件的扩展预先给定辐射场(11,13)的分辨率,以及‑偏移设备,其引起相反的辐射场(11,13)的入射在偏移下这样进行,即两个相反地入射的辐射场(11,13)相互之间偏移分辨率的一部分。
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