[发明专利]多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)-连接的配体有效

专利信息
申请号: 201180011723.6 申请日: 2011-02-28
公开(公告)号: CN102834404A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: C·阿扎普;D·沃尔夫;H·C·L·阿贝努伊斯;G·格里特森;K·格雷拉;J·B·M·维尔廷;K·莱什琴斯卡;J·恰班;A·沃伊塔谢维奇 申请(专利权)人: 赢创德固赛有限公司
主分类号: C07F7/21 分类号: C07F7/21
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 于辉
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 通式(I)的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)连接的配体:L[(R1a)n-1(SiO1,5)nR2a]k[(R1b)n-1SiO1,5)nR2b]1[(R1c)n-1SiO1,5)nR2c]m,(I)其中,(R1a,b,c)n-1(SiO1,5)n是多面体低聚倍半硅氧烷(POSS),n=4、6、8、10、12、14、16或18,并且R1a、R1b、R1c各自独立地选自相同或不同的支链或直链的C1-C20烷基链、环烷基、C1-C20烷氧基、芳基、芳氧基、杂芳基和芳烷基,k、l、m是0或1,条件是k+l+m≥1,R2a、R2b、R2c是将多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)连接至配体L的间隔基,配体L是不带电荷的电子供体。
搜索关键词: 多面体 低聚倍半硅氧烷 poss 连接
【主权项】:
通式(I)的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)连接的配体:L[(R1a)n‑1(SiO1,5)nR2a]k[(R1b)n‑1SiO1,5)nR2b]l[(R1c)n‑1SiO1,5)nR2c]m    (I)其中,(R1a,b,c)n‑1(SiO1,5)n是多面体低聚倍半硅氧烷(POSS),n=4、6、8、10、12、14、16或18,并且R1a、R1b、R1c各自独立地选自相同或不同的支链或直链的C1‑C20烷基链、环烷基、C1‑C20烷氧基、芳基、芳氧基、杂芳基和芳烷基,k、l、m是0或1,条件是k+l+m≥1,R2a、R2b、R2c是将多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)连接至配体L的间隔基,R2a、R2b、R2c各自独立地选自直链或支链的C1‑C20烷基、C3‑C10环烷基、C1‑C20烷氧基、C2‑C20烯基、C2‑C20烯氧基、芳氧基、C1‑C20烷硫基、C1‑C20羧酸酯基、芳基或杂芳基、C1‑C20卤代烷、环状芳基或环状杂芳基、C3‑C10环烷基,它们进而可各被一个或多个选自以下的基团进一步取代:杂原子或芳基、醚、聚醚聚硫醚、氨基、芳基桥接的烷基链,其中芳基部分可包括进一步取代的形式,并且配体L是不带电荷的电子供体。
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