[发明专利]用于金属化合物的清洁溶剂和清洁方法

摘要

公开了用于在光伏工业或半导体工业中向生产设备供应有机金属化合物的设备上所沉积的金属化合物的清洁溶剂和清洁方法。所公开的清洁溶剂和清洁方法不仅在不腐蚀该设备的情况下选择性移除所述金属化合物，而且改善了常规清洁方法。此外，所公开的清洁溶剂和清洁方法改善了供应系统的维护成本，这是因为该设备可在不从供应系统中拆卸的情况下清洁。

主权项

一种清洁光伏或半导体工业中所用的设备零件的方法，所述方法包括：使被金属化合物污染的所述设备零件表面与包含如下组分的清洁溶剂接触：选自乙腈、丙酮和四氢呋喃的稀释剂；包含胺类化合物的促进剂；具有式R1‑CO‑CH‑R2‑CO‑R3的二酮化合物，其中R1和R3独立地选自烷基和被氧取代的烷基，其中R2选自氢、烷基和被氧取代的烷基，所述二酮化合物能与所述金属化合物形成β‑二酮合物配合物，其中所述清洁溶剂不含水或超临界CO2；和移除所述清洁溶剂，从而从所述设备零件的表面移除所述金属化合物，其中所述金属化合物选自Al、Ga、In、Sn、Zn、Cd、其金属氧化物及其混合物。