[发明专利]等离子体处理装置用电介质窗、等离子体处理装置和等离子体处理装置用电介质窗的安装方法无效

专利信息
申请号: 201180013454.7 申请日: 2011-03-24
公开(公告)号: CN102792427A 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: 吉川弥;松本直树;吉川润 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065;H01L21/205;H01L21/31;H05H1/46
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在等离子体处理装置用电介质窗(41)中,在生成等离子体的一侧的面的径向外侧区域,设置有排列成环状、向电介质窗(41)的板厚方向内侧凹入成锥形状的第一电介质窗凹部(47)。在第一电介质窗凹部(47)的径向内侧区域,设置有从生成等离子体的一侧的面朝向电介质窗(41)的板厚方向内侧凹入的多个第二电介质窗凹部(53a~53g)。多个第二电介质窗凹部(53a~53g),以电介质窗(41)的径向的中心(56)为中心具有旋转对称性地分别在周向上隔开间隔地配置。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 用电 介质 安装 方法
【主权项】:
一种等离子体处理装置,将微波作为等离子体源,该等离子体处理装置的特征在于:具备大致为圆板状、传播所述微波的等离子体处理装置用电介质窗,在所述等离子体处理装置用电介质窗中,在已配设于所述等离子体处理装置时生成等离子体的一侧的面的径向外侧区域,设置有排列成环状、向所述等离子体处理装置用电介质窗的板厚方向内侧凹入呈锥形状的第一电介质窗凹部,在所述第一电介质窗凹部的径向内侧区域,设置有从生成所述等离子体的一侧的面朝向所述等离子体处理装置用电介质窗的板厚方向内侧凹入的多个第二电介质窗凹部,多个所述第二电介质窗凹部,以所述等离子体处理装置用电介质窗的径向的中心为中心具有旋转对称性地分别在周向上隔开间隔地配置。
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