[发明专利]弯曲优化多模光纤的DMD性能的改进有效
申请号: | 201180013759.8 | 申请日: | 2011-02-09 |
公开(公告)号: | CN102884458A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 蒋新力;金真基;G·欧伦德森;孙懿 | 申请(专利权)人: | OFS菲特尔有限责任公司 |
主分类号: | G02B6/028 | 分类号: | G02B6/028 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 陈新 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种光纤折射率分布设计,其具有α芯部分布和负折射率沟槽以控制弯曲损耗,该设计通过截短α芯部分布的边缘和在截短的芯部增加凸台而得以改进。其结果是低的弯曲损耗并且保持了低的差分模式时延和高带宽。 | ||
搜索关键词: | 弯曲 优化 光纤 dmd 性能 改进 | ||
【主权项】:
一种多模光纤,具有中心并且包括从中心向外径向延伸的以下一系列同心区域:基本上为α分布的α芯部区域,其从光纤的中心径向延伸到距离R1,位于中心的芯部区域在芯部中心具有折射率n1,凸台区域,其从R1延伸到R3并且具有折射率ns,其中R3‑R1定义了凸台的宽度;内包层区域,其具有折射率nclad,并且从R3向外径向延伸,延伸距离大于0.5微米,其中Δns定义了凸台区域的折射率差并且Δns=ns‑nclad;沟槽区域,其从内包层区域向外径向延伸;以及外包层区域,其从沟槽区域向外径向延伸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于OFS菲特尔有限责任公司,未经OFS菲特尔有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180013759.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。