[发明专利]光刻的检验无效

专利信息
申请号: 201180014244.X 申请日: 2011-02-21
公开(公告)号: CN102804073A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: A·斯特拉艾杰 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王鹏鑫
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种系统,配置成测量从衬底衍射的两个分离的偏振束以确定衬底上的光栅的性质。线偏振光源通过固定的相推迟器以便改变两个正交的偏振辐射束中的一个相对于两个束的另一个的相。两个辐射束的相对的相以及检测器中测量的束的其他特征得出衬底表面的性质。光栅和所述辐射束的初始线性偏振相对于彼此成非正交的角度。
搜索关键词: 光刻 检验
【主权项】:
一种测量衬底上光栅的性质的方法,所述方法包括步骤:提供具有线性偏振的辐射束;在一定范围的入射角和方位角条件下将辐射束反射离开光栅;引入相移至所述线性束,由此将其偏振改变为椭圆偏振;将被反射的辐射束分成第一和第二正交的偏振子束;将第一子束的相相对于第二子束偏移固定的量;和同时检测两个子束的角分辨光谱;其中,所述光栅和所述辐射束的初始线性偏振方向相对彼此成非正交的角度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180014244.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top