[发明专利]制冷方法和具有脉冲载荷的设备

摘要

一种用于托卡马克（11）的构件（1）的脉冲负载制冷的方法，所述方法使用使诸如氦之类的工作流体经历工作循环（3）的制冷装置（2），所述托卡马克（11）包括称为“周期性和对称的”的至少一种操作模式，根据所述方法，当所述托卡马克（11）处于等离子体生成相位时（Dp），由所述冷却装置（2）产生的冷却功率升高至相对高的水平，而当所述托卡马克（11）不再处于等离子体生成相位时（Dnp），由所述冷却装置（2）产生的冷却功率降低至相对低的水平，所述方法的特征在于，在所述托卡马克（11）的所述“周期性和对称的”操作相位期间，根据也属于“周期性和对称的”类型——亦即其中生成高制冷水平和生成低制冷功率水平的相应时长最多相差30%——的强制变化来调整所述制冷装置（2）的制冷功率，并且制冷功率的变化带来制冷功率的逐渐升高或降低，并且响应于在所述托卡马克（11）中的等离子体开始步骤期间——亦即在所述构件（1）上的热负载升高前——生成的信号（S）而提前触发由所述制冷装置（2）产生的制冷功率的升高。

主权项

一种用于冷却“托卡马克”（11）的构件（1）、即用于间歇地生成等离子体的设备（11）的构件（1）的脉冲负载方法，所述方法采用使诸如氦之类的工作流体经历工作循环（3）的冷却装置（2），所述工作循环（3）包括：压缩（12）；冷却和膨胀（22，211）；与所述构件（1）换热（32）；以及加热，所述托卡马克（11）包括称为“周期性和对称的”操作模式——即，其中以两个连续的等离子体之间的时长（Dnp）的间隔周期性地生成预设时长（Dp）的等离子体的操作模式——的至少一个操作模式，所述间隔的时长（Dnp）与所述等离子体的时长（Dp）相差最多30%（Dnp=Dp±30%），根据所述方法，当所述托卡马克（11）处于等离子体生成相位（Dp）时，由所述冷却装置（2）产生的冷却功率升高至相对高的水平，而当所述托卡马克（11）不再处于等离子体生成相位（Dnp）时，由所述冷却装置（2）产生的冷却功率降低至相对低的水平，所述方法的特征在于，在所述托卡马克（11）的所述“周期性和对称的”操作相位期间，使用强制的“周期性和对称的”控制——即，生成高冷却水平和生成低水平冷却功率所耗费的相应相位的时长最多相差30%——来调整由所述冷却装置（2）产生的冷却功率，并且所述冷却功率变化以便产生所述冷却功率的逐渐升高和降低，并且响应于在所述托卡马克（11）中开始所述等离子体的步骤期间产生的信号（S）而在预期生成等离子体时——即，在所述构件（1）上的热负载升高前——触发由所述冷却装置（2）产生的冷却功率的升高。