[发明专利]胶粘剂组合物、胶粘带、半导体晶片的处理方法及TSV晶片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201180015098.2 申请日: 2011-03-17
公开(公告)号: CN102822306A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 野村茂;杉田大平;利根川亨 申请(专利权)人: 积水化学工业株式会社
主分类号: C09J201/00 分类号: C09J201/00;C09J7/02;C09J11/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于提供既具有高的胶粘力又能够易于剥离剥離、且耐热性也优异的胶粘剂组合物,使用了该胶粘剂组合物的胶粘带,以及使用了该胶粘带的半导体晶片的处理方法,及使用了该胶粘带的TSV晶片的制造方法。本发明是含有胶粘剂成分、以及下述通式(1)、通式(2)或通式(3)所示的四唑化合物或其盐的胶粘剂组合物。式(1)~(3)中,R1、R2表示氢、羟基、氨基、碳数为1~7的烷基、亚烷基、苯基或巯基。前述碳数为1~7的烷基、亚烷基、苯基羟基也可以被取代。
搜索关键词: 胶粘剂 组合 胶粘带 半导体 晶片 处理 方法 tsv 制造
【主权项】:
1.一种胶粘剂组合物,其特征在于,含有胶粘剂成分、以及下述通式(1)、通式(2)或通式(3)所示的四唑化合物或其盐;式(1)~(3)中,R1、R2表示氢、羟基、氨基、碳数为1~7的烷基、亚烷基、苯基或巯基,所述碳数为1~7的烷基、亚烷基、苯基或巯基也可以被取代。
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