[发明专利]波纹放大装置

摘要

一种波纹放大装置包括透明基底（20），该透明基底承载：ⅰ）第一表面上的规则阵列（22）的微聚焦元件，所述聚焦元件限定一个焦面；ⅱ）第一颜色的、位于与聚焦元件的焦面基本叠合的平面中的对应的第一阵列（10）的微图像元件；ⅲ）与第一颜色不同的第二颜色的、位于与聚焦元件的焦面基本叠合的平面中的对应的第二阵列（11）的微图像元件。微聚焦元件（22）的间距、第一和第二阵列（10、11）的微图像元件的间距以及它们的相对位置使得所述阵列的微聚焦元件与第一和第二阵列的微图像元件中的每一个协作，从而由于波纹效应而生成每个阵列的微图像元件的相应的放大型式，并且使得对照由第二阵列的微图像元件的放大型式所限定的背景来观察第一阵列的微图像元件的放大型式；当装置倾斜时，第一阵列的微图像元件的放大型式呈现相对于背景的移动；以及其中阵列之间的间距失配被选择为使得第一阵列的元件的放大型式出现在第二阵列的元件的放大型式的上方或下方。

主权项

一种波纹放大装置，包括透明基底，该透明基底承载：ⅰ）第一表面上的规则阵列的微聚焦元件，所述聚焦元件限定一个焦面；ⅱ）第一颜色的、位于与所述聚焦元件的焦面基本叠合的平面中的对应的第一阵列的微图像元件；ⅲ）与所述第一颜色不同的第二颜色的、位于与所述聚焦元件的焦面基本叠合的平面中的对应的第二阵列的微图像元件；其中所述微聚焦元件的间距、所述第一阵列的微图像元件的间距、所述第二阵列的微图像元件的间距以及它们的相对位置使得所述阵列的微聚焦元件与所述第一和第二阵列的微图像元件中的每一个协作，从而由于波纹效应而生成每个阵列的微图像元件的各自的放大型式，并且使得对照由所述第二阵列的微图像元件的放大型式所限定的背景来观察所述第一阵列的微图像元件的放大型式；当所述装置倾斜时，所述第一阵列的微图像元件的放大型式呈现相对于背景的移动；以及其中所述阵列之间的间距失配被选择为使得所述第一阵列的元件的放大型式出现在所述第二阵列的元件的放大型式的上方或下方。