[发明专利]等离子显示面板的制造方法无效
申请号: | 201180015624.5 | 申请日: | 2011-03-17 |
公开(公告)号: | CN102812532A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 后藤真志;辻田卓司;河原崎秀司;堀河敬司;小盐千春;奥村加奈子;三浦正范 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01J9/38 | 分类号: | H01J9/38;H01J9/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种具备放电空间、和与放电空间相对置的保护层的等离子显示面板的制造方法。通过向所述放电空间导入包含还原性有机气体的气体,从而使保护层暴露在还原性有机气体中。接着,从放电空间排出还原性有机气体。接着,向放电空间封入放电气体。保护层具有由氧化镁构成的基底膜、和分散配置在基底膜上的多个金属氧化物粒子。金属氧化物粒子至少包含第1金属氧化物和第2金属氧化物。并且,金属氧化物粒子在X射线衍射分析中至少具有一个峰值。该峰值位于第1金属氧化物在X射线衍射分析中的第1峰值、与第2金属氧化物在X射线衍射分析中的第2峰值之间。第1峰值及第2峰值表示与该峰值示出的面方位相同的面方位。 | ||
搜索关键词: | 等离子 显示 面板 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种等离子显示面板的制造方法,该等离子显示面板具备放电空间、和与所述放电空间相对置的保护层,其中,所述保护层具有由氧化镁构成的基底膜、和分散配置在所述基底膜上的多个金属氧化物粒子,所述金属氧化物粒子至少包含第1金属氧化物和第2金属氧化物,并且所述金属氧化物粒子在X射线衍射分析中具有至少一个峰值,所述峰值位于所述第1金属氧化物在X射线衍射分析中的第1峰值、与所述第2金属氧化物在X射线衍射分析中的第2峰值之间,所述第1峰值及所述第2峰值表示与所述峰值示出的面方位相同的面方位,所述第1金属氧化物及所述第2金属氧化物是从由氧化镁、氧化钙、氧化锶及氧化钡构成的组中选择的2种化合物,通过向所述放电空间导入包含还原性有机气体的气体,从而使所述保护层暴露在所述还原性有机气体中,接着,从所述放电空间排出所述还原性有机气体,接着,向所述放电空间封入放电气体。
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