[发明专利]用于在衬底上沉积原子层的方法和装置

摘要

本发明提供了一种在衬底上沉积原子层的方法。该方法包括从可以是可旋转滚筒的一部分的沉积头的前体气体供应口供应前体气体。前体气体从前体气体供应口朝向衬底供应。该方法还包括通过旋转沉积头而沿着衬底移动前体气体供应口，衬底进而沿着可旋转滚筒移动。

主权项

一种在衬底上沉积原子层的方法，所述方法包括从沉积头所包括的前体气体供应口朝向所述衬底供应前体气体；使所述前体气体在所述衬底附近，例如在所述衬底上反应，以便形成原子层，所述沉积头具有在沉积所述原子层的过程中至少部分地面向所述衬底的输出面，所述输出面设有所述前体气体供应口并且具有限定所述衬底的动路径的大致圆形的形状，其中，所述方法还包括在供应所述前体气体时通过旋转所述沉积头而沿着所述衬底移动所述前体气体供应口；由此在沿着一个方向连续地移动所述前体气体供应口时沉积原子层的叠层。