[发明专利]制备熔体挤出的膜的方法和熔体挤出的膜无效
申请号: | 201180016232.0 | 申请日: | 2011-02-25 |
公开(公告)号: | CN103153580A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | M.哈尔;M.里德;U.施雷萨 | 申请(专利权)人: | 陶氏环球技术有限责任公司 |
主分类号: | B29C47/00 | 分类号: | B29C47/00;A61K9/70;B29C55/00;B32B27/08;B32B27/18;C08J5/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 封新琴 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 熔体挤出的膜通过包括以下步骤的方法制备:共混a)水溶性聚合物、b)活性成分、和c)任选的添加剂,和使共混物经受熔体挤出以制备挤出的熔体,以1.5至20的预拉伸比拉伸所述挤出的熔体形成厚度为至少0.04mm的膜。 | ||
搜索关键词: | 制备 挤出 方法 | ||
【主权项】:
制备熔体挤出的膜的方法,包括以下步骤共混a)水溶性聚合物,b)活性成分,和c)任选的添加剂,和使所述共混物经受熔体挤出以制备挤出的熔体,以1.5至20的预拉伸比拉伸所述挤出的熔体形成厚度为至少0.04mm的膜。
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