[发明专利]表面处理设备有效
申请号: | 201180016312.6 | 申请日: | 2011-03-17 |
公开(公告)号: | CN102844464A | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
发明(设计)人: | 姜玉雁;稻垣昌英;中岛健次;牧野聪一郎;堀之内成明;伊藤孝浩 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 为了减小在表面处理设备中当表面处理材料流体沿着衬底的表面流动以排出时由于使用过的流体与出口通道的内壁碰撞而引起的紊流。表面处理设备(10)是其中盘状试料保持台(14)设置在构成圆筒状圆周壁的外壳(12)内的设备。设置在外壳(12)的上部中的圆筒状部分(22)构成材料流体供应通道,并且设置在外壳(12)中试料保持台(14)的横向侧上并随着气远离圆筒状部分(22)而扩展成形的通道构成流体排出通道(24)。流体排出通道(24)采用抛物线曲线等,其中,试料保持台(14)的最外圆周的上端的位置定义为焦点位置,并且与焦点位置对称的出口的上端的位置定义为基准位置。 | ||
搜索关键词: | 表面 处理 设备 | ||
【主权项】:
一种表面处理设备,其包括:外壳,其构成周壁;试料保持台,其设置在所述外壳内,用于保持试料;材料流体供应通道,其设置到所述外壳,用于将材料流体供应到在所述试料保持台上的所述试料;以及流体排出通道,其设置在所述外壳中的所述试料保持台的横向侧,用于将在沿着所述试料的表面流动的同时已经将表面处理施加到所述试料的所述材料流体作为使用过的流体经由在所述试料保持台的横向侧形成的出口排出到外部,其中,当与所述出口的横截面垂直的方向轴定义为x轴,与所述x轴正交的任意方向轴定义为y轴,所述出口的周缘端与所述y轴相交的点中的一个点的位置被定义为焦点位置,并还定义为所述y轴的+a位置,所述出口的所述周缘端与所述y轴相交的点中与所述焦点位置关于所述x轴对称的其他点的位置被定义为基准位置,并还定义为所述y轴的零位置,基准线定义在所述y轴的‑a位置中,所述y轴的‑a位置是与所述焦点位置在夹着所述基准位置的情况下对称的位置,与所述y轴平行的任意垂线与所述基准线相交的点定义为垂线上端点,并且所述任意垂线与从所述焦点位置延伸的任意线相交的点定义为垂线下端点时,所述流体排出通道包括通道一侧曲线,其是在所述垂线上端点和所述垂线下端点之间的距离等于所述焦点位置和所述垂线下端点之间的距离的情况下所述垂线下端点 的轨迹而形成的经过所述基准位置的抛物线曲线,或者以所述抛物线曲线作为基准曲线而形成的抛物线类似曲线,以及通道另一侧曲线,其与所述通道一侧曲线相对,并且所述流体排出通道的形状基于所述通道一侧曲线和所述通道另一侧曲线而形成。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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