[发明专利]圆柱形旋转磁控管溅射阴极装置以及使用射频发射来沉积材料的方法有效
申请号: | 201180016374.7 | 申请日: | 2011-03-31 |
公开(公告)号: | CN102822381A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 罗伯特·肖凯特;理查德·格林韦尔;艾伦·迪基;劳伦斯·依格 | 申请(专利权)人: | 野马真空系统股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 谈晨雯 |
地址: | 美国佛*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种旋转磁控管溅射阴极设备,包括射频电源、功率输送组件、圆柱形旋转阴极、轴和驱动马达,其中,功率输送组件包括位于阴极内的磁场源和在所述阴极内延伸的电极,以便将射频能量传输到阴极的外表面上的靶材料。电极与轴电隔离并且由非铁材料形成,以及轴被机械连接到阴极,以致在阴极围绕磁场源和一部分电极旋转的同时,它们保持电隔离。电源适合于以1MHz或更高的频率供给射频能量,并且被电连接到电极。还揭示了一种利用旋转圆柱形磁控管溅射阴极设备来沉积材料的方法,该旋转圆柱形磁控管溅射阴极设备包括射频电源和圆柱形旋转阴极,其中该旋转阴极的外表面包括由氧化物形成的靶材料。该方法包括以下步骤:使得电源以1MHz或更高的频率供给射频能量,使得阴极旋转,以及将衬底定位成紧邻所述阴极的所述外表面,由此,该射频能量使得阴极将颗粒从靶材料喷射到衬底上。 | ||
搜索关键词: | 圆柱形 旋转 磁控管 溅射 阴极 装置 以及 使用 射频 发射 沉积 材料 方法 | ||
【主权项】:
一种旋转磁控管溅射阴极设备,其特征在于,包括射频电源、功率输送组件、圆柱形旋转阴极、轴和驱动马达,其中所述功率输送组件包括位于所述阴极内的磁场源和在所述阴极内延伸的电极;所述阴极的外表面包括靶材料;所述电极与所述轴电隔离;所述电极和所述轴由非铁材料形成;所述轴通常与所述阴极同轴并且被机械连接到所述阴极,以致所述轴和所述阴极被电隔离,并且所述轴的旋转使得所述阴极围绕所述磁场源和一部分所述电极旋转;所述驱动马达适合于旋转所述轴;所述电源适合于以1MHz或更高的频率供给射频能量;以及所述电极被电连接到所述电源。
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