[发明专利]具有对由掩模引起的成像像差的校正的操作投射曝光设备的方法有效
| 申请号： | 201180016812.X | 申请日： | 2011-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN102834776A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | J.罗夫 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及针对掩模适配微光刻的投射曝光设备的方法，该掩模具有在不同的结构方向具有不同节距和/或不同结构宽度的结构，其中通过微光刻的投射曝光设备的操纵器减小由掩模引起的波前像差。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 引起 成像 校正 操作 投射 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
针对掩模适配微光刻的投射曝光设备的方法，该掩模具有在不同的结构方向中具有不同节距和/或不同结构宽度的结构，所述投射曝光设备包括：照明系统，利用照明光照明所述掩模和产生不同的照明设置，物镜，将位于所述物镜的物平面中的所述掩模成像至位于所述物镜的像平面中的晶片上，所述物镜包括具有不同的操纵器偏转的操纵器，通过所述操纵器，能够操纵所述物镜的成像的波前，所述方法的特征在于：在所述掩模的不同结构方向中限定所述掩模的多个不同节距和/或结构宽度，设定所述照明系统中的照明设置或自由形状照明，确定所述操纵器偏转中的一个，所述一个操纵器偏转减少由所限定的节距和/或所限定的结构宽度导致的波前像差，将所述操纵器偏转至所确定的操纵器偏转。
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