[发明专利]光学叠堆和光导有效

专利信息
申请号: 201180017167.3 申请日: 2011-04-11
公开(公告)号: CN102822702A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 威廉·F·埃德蒙兹;刘涛;约翰·F·范德洛弗斯科三世;约翰·A·惠特利 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G02B5/04 分类号: G02B5/04;G02F1/13357;G02B6/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾红霞;彭会
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了光学叠堆。所述光学叠堆包括第一光学叠堆,所述第一光学叠堆包括第一光学粘合剂层和设置在所述第一光学粘合剂层上的反射偏振层。所述反射偏振层基本上反射第一偏振态的光,并且基本上透射与所述第一偏振态正交的第二偏振态的光。所述光学叠堆还包括第二光学叠堆,所述第二光学叠堆包括第二光学粘合剂层、设置在所述第二光学粘合剂层上并且包括分散在粘结剂中的多个空隙的低折射率层、以及设置在所述低折射率层上并且包括多个单一的分立结构的导光薄膜。各个单一的分立结构的一些部分穿入所述第一光学粘合剂层。各个单一的分立结构的一些部分未穿入所述第一光学粘合剂层。各个单一的分立结构限定穿入深度和穿入基面,所述穿入基面位于所述单一的分立结构的穿入部分和未穿入部分之间的界面处。所述穿入基面具有最小穿入基面尺寸。所述多个单一的分立结构具有平均穿入深度和平均最小穿入基面尺寸。所述平均穿入深度相对所述平均最小穿入基面尺寸的比率为至少1.5。所述第一和第二光学叠堆之间的剥离强度大于约30克/英寸。
搜索关键词: 光学
【主权项】:
一种光学叠堆,包括:第一光学叠堆,所述第一光学叠堆包括:第一光学粘合剂层;反射偏振层,所述反射偏振层设置在所述第一光学粘合剂层上,所述反射偏振层基本上反射第一偏振态的光并且基本上透射与所述第一偏振态正交的第二偏振态的光;以及第二光学叠堆,所述第二光学叠堆包括:第二光学粘合剂层;低折射率层,所述低折射率层设置在所述第二光学粘合剂层上并且包括分散在粘结剂中的多个空隙;和导光薄膜,所述导光薄膜设置在所述低折射率层上并且包括多个单一的分立结构,各个单一的分立结构的一些部分穿入所述第一光学粘合剂层,各个单一的分立结构的一些部分未穿入所述第一光学粘合剂层,各个单一的分立结构限定穿入深度和穿入基面,所述穿入基面位于所述单一的分立结构的穿入和未穿入部分之间的界面处,所述穿入基面具有最小穿入基面尺寸,所述多个单一的分立结构具有平均穿入深度和平均最小穿入基面尺寸,所述平均穿入深度相对所述平均最小穿入基面尺寸的比率为至少1.5,所述第一光学叠堆和第二光学叠堆之间的剥离强度大于约30克/英寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180017167.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top