[发明专利]透明基质的光学质量分析方法和装置有效
| 申请号： | 201180017405.0 | 申请日： | 2011-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN103097879B | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | M.皮雄;F.达韦纳 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | G01N21/958 | 分类号： | G01N21/958 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 臧永杰,卢江 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于分析基质（2）的透明表面的该装置（1），包括面对待测量的基质表面布置的标尺（10），标尺形成在有小的和大的伸展的支撑件（11）上。照相机（3）被设置用于得到由被测量的基质变形的标尺的至少一个图像。标尺照明系统（4）和用于处理图像以及数字分析的部件（5）连接到照相机（3）。支撑件（11）是长方形的，标尺是单方向的并由沿支撑件的最小伸展延伸的图案（10）构成。图案（10）横向于小的伸展是周期性的，以及照相机是线性的。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 基质 光学 质量 分析 方法 装置 | ||
【主权项】：
基质（2）的透明表面的分析装置（1），包括：标尺（10），其面对待测量的基质的表面形成在支撑件（11）上；照相机（3），用于捕获由被测量的基质变形的标尺的至少一个图像；标尺照明系统（4）；以及连接到照相机（3）的图像处理/数字分析部件（5），其特征在于，支撑件（11）具有小的和大的伸展的长方形形状，标尺是单方向的并由沿支撑件的较小伸展延伸的图案（10a）构成，图案（10a）横向于小的伸展是周期性的；以及，照相机是线性的并被定位用于沿支撑件（11）的大的伸展获得标尺通过基质的透射的线性图像。
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