[发明专利]气化反应器中的水分配系统

摘要

本发明涉及一种在气化反应器中用于进行造渣夹带流工艺的水分配系统，其中为了形成一个水幕，与具有凹入式弯曲的截面的一个轴向对称的偏转表面一起提供了一个同心的环形分配器作为一个水分配系统，其中该环形分配器具有至少一个进水口，并且该环形分配器具有多个开口，这些开口被合适地设计成使水以射流的形式被排出。来自这些开口的射流被引导到该凹入式弯曲的偏转表面的内侧，并且在来自这些开口的射流的方向上，该凹入弯曲表面的平面取向被配置成使得在该射流的冲击点处该射流方向和该表面的切向平面被定向在朝向彼此在0度至45度之间的一个锐角，并且在截面中该偏转表面被弯曲的程度使得它具有大于60度的一个偏转角。水在压力下被导引进一个环形分配器之中，它从中迅速流过直到它通过多个开口从该环形分配器上流出，其中当水流出每个开口时，它形成冲击在一个偏转表面上的一个对应的水射流，当每个水射流沿着该偏转表面滑动时，它被扇形散开并且与来自对应的相邻的开口的水射流合并而形成一个闭合的水膜，其中在所述闭合的水膜已经离开该偏转表面之后，它被向下导引进入该反应器的内部。

主权项

用于在气化反应器中进行造渣夹带流工艺的水分配系统，其中在气化反应过程中释放的合成气向下流动，所述气化反应器包括：安排在该反应器上部的一个第一反应室，在该反应室的上部区域中安排有用于进料材料的一个进料器装置，并且该反应室的侧壁配备有带有内冷却的多个管以作为一个膜式壁、或配备有多个盘管，液态渣能够从这些盘管自由地向下流而不会引起这种渣的表面发生凝固，并且在该反应室的底侧配备了一个带有滴落边缘的开口，一个第二室被定位在底部处而与所述开口连接，其中将该合成气保持干燥且通过辐射冷却将其冷却，并且其中配备了用于产生一个漏斗形水幕的一个水分配系统，一个第三室被定位在底部处而与该第二室连接，并且用于来自该反应器的合成气的一个排放装置被安装在底部处或在该第三室的侧面上，其特征在于为了形成一个水幕，一个同心的环形分配器与在其截面中凹入式弯曲的一个轴对称的偏转表面相组合被提供用作水分配系统，其中该环形分配器具有至少一个水送入，该环形分配器具有多个开口，这些开口被合适地实施成用于允许一种射流式水输出，来自这些开口的射流方向指向该凹入式弯曲的偏转表面的内侧，在来自这些开口的射流方向上，该凹入式弯曲的表面的平面取向的特征为，使得该射流的方向与该截面积的切向平面在该射流的冲击点处以范围在0度至45度之间的一个锐角向彼此对齐，并且其中该偏转表面在其截面中被弯曲直至使得它具有一个大于60度的偏转 角。