[发明专利]涂覆方法及装置无效
申请号: | 201180019782.8 | 申请日: | 2011-03-02 |
公开(公告)号: | CN102844463A | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
发明(设计)人: | M·拉加拉;O·佩科宁 | 申请(专利权)人: | BENEQ有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C18/12;C23C16/52;C03C17/245 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 汪宇伟 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | 涂覆方法及用于该方法的涂覆装置。涂覆装置包括组件(5,6),用于形成混合物,所述混合物包含至少一种表面反应的前体;组件(7),用于使混合物雾化成为液滴(8);组件(1),用于将混合物的液滴(8)往将被表面反应涂覆的基板(4)的表面(3)传输。调整用于形成混合物的组件(5,6),以将液态载体物质混合到混合物中,所述液态载体物质并不是表面反应的前体,并且在已定义的方法空间中其沸点低于表面反应的前体的沸点。本发明所提出的设置同时提高涂覆方法的速度和质量。 | ||
搜索关键词: | 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种涂覆基板(4)的表面(3)的方法,所述方法包括:形成液态涂覆混合物,所述液态涂覆混合物包含至少一种在所述基板(4)的表面(3)上反应用于形成涂层的前体;将所述涂覆混合物雾化为液滴(11);朝着所述基板(4)的表面(3)传输所述液滴(11),使得所述至少一种前体在所述基板(4)的表面(3)上反应;其特征在于将液态载体物质混合至所述混合物,其中所述液态载体物质不是前体,并且所述液态载体物质的沸点低于所述前体的沸点。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的